이 교수는 ‘방사광 엑스-선 스침각 산란’이라는 나노 분석기술을 새로 개발하고, 이를 이용해 50나노미터(㎚)급 이하의 차세대 반도체 개발을 가능케 하는 초저유전 고분자 절연재료를 개발한 공로를 인정받았다.

‘방사광 엑스-선 스침각 산란’ 분석 기술은 0.1㎚(1㎚는 10억분의 1미터) 크기를 가진 나노 소재의 구조와 특성을 정밀하게 분석할 수 있는 기술. 이 교수는 포항방사광가속기에서 만들어지는 방사광 엑스선을 소재 표면에 쪼여 구조를 분석하는 ‘스침각 산란법’으로 나노 소재 전체의 구조와 특성을 분석할 수 있는 기술을 개발했다.

기존의 분석기술은 시료나 제품을 작게 잘라내어 분석하는 파괴적인 방법이 많이 쓰였지만 나노 제품은 크기가 1~500㎚ 정도로 매우 작아서 그 구조와 특성을 파악하는 데 어려움을 겪어왔다.

이 교수는 또 반도체 선폭을 머리카락 2,000분의 1 굵기인 50㎚ 이하로 줄일 수 있는 나노 신소재를 제조하는 데도 잇달아 성공했다. 컴퓨터 저장용량과 처리속도를 향상시키려면 반도체 선폭을 최대한 줄이는 게 관건인데, 현재 세계 반도체 업계는 50㎚ 실현에 사활을 걸고 있다.

이 교수의 연구결과는 유명 국제학술지인 네이처 머터리얼즈지와 어드벤스트 머터리얼즈지에 게재되는 등 국제 학계에서도 주목받고 있다.